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產品名稱:OE-1050 雙棱鏡干涉實驗

採用半導體雷射器(650nm、4mW)作為光源,功率穩定度優於1%。

用一維位移架+十二檔光探頭進行資料測量,更加客觀精確、精度可達0.02mm。

光學實驗導軌為1000mm。

實驗內容及相關科目:

  • 調整光路,觀察分波面的干涉條紋,體會分波面干涉的原理和理論。
  • 測量干涉條紋的間隔,推算雷射波長。

 

儀器特點:

  • 採用半導體雷射器(650nm、4mW)作為光源,功率穩定度優於1%。
  • 用一維位移架+十二檔光探頭進行資料測量,更加客觀精確、精度可達0.02mm。
  • 光學實驗導軌為1000mm。
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